导语：
北京时间2017年10月 ，第14届“等离子基离子注入和沉积技术国际学术会议”（the 14th International Conference on Plasma Based Ion Implantation & Deposition PBII&D 2017）在上海召开 ，期间我；倒こ碳白远г豪盍鹾辖淌谕哦硬┦垦芯可硪诘难趼畚娜倩褡罴颜拱褰保ā癇est Poster Award”) 。该项成果中首次提出了EGD-PIII＆D管内等离子体放电过程中的自增强等离子体放电效应 ，并研究了该效应的控制规律 ，得到了PBII&D2017组织委员会、与会国内外专家的高度评价 。
科研背景：现有技术的局限
低温等离子体表面改性 ，是一种融合了物理、化学等交叉学科知识的前沿技术 。目前 ，这一技术已经广泛地应用于医药学、环境科学、轻工纺织等领域 ，但其在管状工件内壁应用时仍存在着重大局限：对于内径较小且长径比较大的管状工件来说 ，外部等离子体难以进入管状工件内部 ，等离子体在其内部也难以发生 。
然而 ，管状工件作为机械化工、生物医药等领域产品的关键部分 ，其性能极大程度上影响着产品的功能发挥 。以人造血管为例 ，目前世界上虽然存在内径小于3mm的人造血管 ，但因其使用寿命过短 ，应用效果通常不尽如人意 。因此 ，对管道内壁进行涂层或改性 ，以延长管道的使用年限、拓宽应用领域 ，成为了该领域研究者所共同关心的问题 。
人造血管模型
科研成果：制造技艺的革新
EGD-PIII&D装置是许亿博士导师李刘合教授的专利 ，一次偶然的机会 ，许博士发现利用装置点状阳极和大面积阴极靶的独特设计 ，可以在实验中制造出足够数量和能量的二次电子 。这一现象引发许亿博士联想到 ，它能够作为管内等离子体的发生和维持的荷能粒子源 ；诖 ，许亿博士首次提出将电子聚焦电场增强等离子体基离子注入/沉积（EGD-PIII＆D）技术应用于管内等离子体的产生 ，破解了内径较小且长径比较大的管状工件内离子体难以发生的问题 ，因而得到了“等离子体基离子注入及沉积”领域最高水平国际会议PBII&D的高度认可 。
EGD-PIII&D 装置示意图
管内壁DLC薄膜沉积过程中自增强等离子体放电效应主要过程
许亿博士的研究 ，目前已进展至能够利用EGD-PIII＆D技术 ，在内径细至0.8mm、长超过100mm的石英毛细管的内壁沉积了DLC薄膜 ，并将该技术拓展至螺旋管、C形管等异形管内壁薄膜的沉积 。此外 ，许亿博士针对管内壁DLC薄膜沉积过程中初始阶段注入电流快速增长的现象 ，研究了管内壁材料对等离子体放电的影响 ，揭示了自增强等离子体放电效应 ，又对管内壁涂层不均匀的问题设计了多项试验 ，最终掌握了管内壁DLC薄膜沉积过程中气体流量和电压大小对薄膜均匀性的影响规律 。
直管和异型石英管内壁沉积DLC薄膜前后对比图
科研心得：积累+细节=成功
在谈及自己成功的背后 ，许亿博士最大的感悟 ，就是科研人员应当尽可能丰富自己的知识储备 。研究者必须要去阅读大量的文献 ，熟悉所在领域国内外前沿 ，才能一方面避免重复他人已经实践的工作 ，提升研究的回报率；另一方面 ，从他人的成果中不断汲取灵感 ，可以启发自己探索出解决问题的新思路 。
在研究电子聚焦电场增强等离子体离子注入且沉积问题的同时 ，许亿博士还进行过质点网格法/蒙特卡洛算法（PIC/MC）及高能脉冲磁控溅射技术（HiPIMS）等方向的研究 ，并发表过3篇SCI-Q1区论文、1篇EI论文 。对此 ，许亿博士表示 ，科研中应当不放过任何细节之处 ，只有把握住每一次实验所带来的机遇 ，不断深入、融汇贯通 ，才能够实现事半功倍的效果 。
许亿博士
结语：
新的技术和方法往往能带来一系列产品的革新 ，许亿博士关于毛细管内壁涂层方法的改良 ，对于机械化工、生物医药等领域都将产生一定影响 。虽然已经在国际会议上崭露头角 ，但许亿博士的科研之路却绝不会止步 。在KU酷游官网建设世界一流大学的征程中 ，我们也期待有更多创新人才的涌现 。
策划/文案：张金星、李培源
设计：杨彦卓 技术：曹嘉辉 英文编辑：李明珠
鸣谢：机械工程及自动化学院、许亿博士
编审：KU酷游官网门户网站总编总监工作室
投稿：geoos@buaa.edu.cn
